我们与世界各地的客户共同开发面膜技术的历史悠久。1996年，我们通过与客户建立协作开发模式，打破了光掩膜技术研究的模式。这一战略对我们的客户来说已经证明是非常成功的，行业内的其他人已经开始模仿这种方法。

Reticle技术中心有限责任公司（RTC）成立于1996年，是世界上第一个光罩技术开发合资企业。我们与摩托罗拉，AMD和美光科技建立了这种合作关系，开发和生产用于亚波长光刻的光掩模。经过六年多的成功运作后，RTC的活动被纳入我们的Round Rock制造工厂，并在德国德累斯顿开设了一个新的研发机构Advanced Mask Technology Center（AMTC）。

与联合创始人AMD和英飞凌科技一起，我们构建了AMTC，从90nm节点开始不断开发光掩模技术。今天，我们的德累斯顿业务运行28nm产品，是世界上最大的商业EUV光掩模供应商。

2005年，我们扩展了与IBM的合作关系，共同开发先进的光掩模。我们共同开发了45nm，32 / 28nm和22 / 20nm技术周期的技术，目前我们正在开发实现14nm节点所需的光掩模技术。

通过参与行业联盟IMEC和Selete，凸版继续实现未来。半导体市场的无情步伐需要创新的解决方案，而凸版的技术开发合作方式将引领光掩膜行业。