三星显示器(Samsung Display)与乐金显示器(LG Display)目前正在研拟于可挠式OLED薄膜封装制程上导入原子层沉积技术(Atomic Layer Deposition;ALD)。两家公司都与设备协力厂合作研发ALD设备，并进入测试阶段。若导入ALD制程，阻挡水分及氧气的效果会提升，将有望提升可挠式OLED面板寿命以及性能。

韩媒ET News报导，三星显示器与乐金显示器目前正准备于可挠式OLED制程上导入ALD技术。目前拥有显示器用ALD技术与设备的南韩厂商有周星工程(Jusung Engineering)、Wonik IPS、AP System以及TES。据悉，乐金显示器已结束ALD的研究，并展开制程导入的研发作业，而三星显示器也开始加快ALD导入速度。

两家公司虽然早已开始研究ALD技术，不过最近随着可挠式OLED设备投资热潮，提升了实际导入ALD技术的可能性。

因为OLED是有机材质，在对于水分及氧气的抵抗性较不足。为了保护OLED材料，必须多次涂上薄膜保护材质。虽然每家面板制造商在薄膜层涂抹的次数不一样，但平均有机物薄膜和无机物薄膜约会涂抹3~5次，采用的则是Vitex的方式。

一般而言，无机物薄膜封装可以使用PECVD、Sputtering以及ALD技术。有机物薄膜沉积则常使用Kateeva喷墨列印技术。过去，三星显示器与乐金显示器在无机物薄膜制程采用的都是PECVD技术。

不过最近随着对于OLED寿命及功能改善的急迫性提升，这两家公司都开始研拟导入ALD技术。主要的问题就在于，相较于可挠式OLED需求的提升，生产性则是下滑。

如果在显示器上采用ALD技术，可以把薄膜杂质极小化，形成相同厚度的薄膜。透过质量较好的薄膜，保护OLED材质的效果就会增强，水分及氧气就不容易进入。无机物薄膜如果以不同纳米单位来交替沉积，将可极小化整体薄膜的厚度，也就可呈现相当低的透水度(Water Vapor Transmission Rate)，此外，因可更多样地呈现薄膜组成，也有望克服现有CVD方式的材料极限。

半导体业界因为微细制程进展，早已开始积极导入ALD。反观显示器业界却在导入上犹豫不定，主要还是因为设备费用比PECVD来的昂贵，再加上在6代大尺寸运用以及沉积速度上仍面临许多难题，不过，最近随着部分问题得到解决，导入的可能性也日益攀升。

南韩业界人士表示，虽然无法完全进行比较，不过大致来说，ALD沉积速度约比PECVD慢上10倍左右。如果沉积速度较慢，生产性就会降低。此外，大尺寸量产上仍是最大的障碍。不过，如果薄膜厚度可以更薄，就很值得研拟实际导入制程的可能性。