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Aviza与BOC Edwards将联手开发原子层淀积(ALD)方法与材料

来源:SEMI中国 作者:—— 浏览:502

标签:

摘要:据Semiconductor Reporter网站报道,Aviza Technology Inc.与BOC Edwards近期联合宣布,两家公司已经达成协议,将联合开发原子层淀积(ALD)系统。合作将基于BOC Edwards在化学方面的经验和Aviza在ALD硬件技术方面的优势,针对高k和金属材料淀积方法进行优化,目标提高设备效率、产能并降低成本。 我们非常高兴可以有机会同ALD市场的引领者Av

据Semiconductor Reporter网站报道,Aviza Technology Inc.与BOC Edwards近期联合宣布,两家公司已经达成协议,将联合开发原子层淀积(ALD)系统。合作将基于BOC Edwards在化学方面的经验和Aviza在ALD硬件技术方面的优势,针对高k和金属材料淀积方法进行优化,目标提高设备效率、产能并降低成本。

我们非常高兴可以有机会同ALD市场的引领者Aviza合作,进行应用于下一代制程中的ALD解决方案的开发,BOC Edwards电子材料技术主管Atul Athalye表示,我们的客户将从中受益,目标实现制程技术的优化,从而实现成本控制并提高成品率。

与BOC Edwards的合作将有利于先进ALD薄膜的研发,以提供多IC应用的多种薄膜制作,Aviza先进应用副总裁Helmuth Treichel表示,相信BOC Edwards先进的Flex-ALD和我们独特的ALD硬件技术,将为全球IC市场带来先进制造整合的能力。

Aviza公司同时提供Celsior型单圆片ALD系统和Verano 5500型批量ALD系统。

相关链接(英文):
http://www、semireporter、com/public/15011、cfm

型号 厂商 价格
EPCOS 爱普科斯 /
STM32F103RCT6 ST ¥461.23
STM32F103C8T6 ST ¥84
STM32F103VET6 ST ¥426.57
STM32F103RET6 ST ¥780.82
STM8S003F3P6 ST ¥10.62
STM32F103VCT6 ST ¥275.84
STM32F103CBT6 ST ¥130.66
STM32F030C8T6 ST ¥18.11
N76E003AT20 NUVOTON ¥9.67
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