荷兰设备商ASM International N.V.和Hitachi Kokusai Electric Inc.日前签署了一项原子层淀积（ALD）设备方面的协议。

根据条款，ASMI将向日本Hitachi Kokusai提供ALD技术相关专利的使用权。此次合约期限未予透露。

ASMI是ALD技术的先驱者，也是Intel Corp.的ALD设备主要供应商。Intel正是用ALD技术来制造用于45nm节点堆叠栅的高k材料。

Hitachi Kokusai也同样在ALD领域积极探索。“我们一直在开发批量ALD技术，”Hitachi Kokusai总经理Shoichiro Izumi在一份声明中说道，“相信此次协议将推动我们ALD技术的进展，这将为我们的客户带来极大的益处。”

据悉，Aixtron、Applied、Aviza和TEL等设备商均提供ALD设备。据报道，TEL获得了来自IBM“晶圆俱乐部”技术联盟的高k介质设备订单。