据EE Times网站报道，半导体设备商Altatech Semiconductor日前推出化学气相淀积和原子层淀积设备AltaCVD。

该公司未透露该设备售价。

AltaCVD设备采用蒸发技术实现粘性非挥发前体淀积。公司介绍，该设备适用于研发及试生产。

据Altatech介绍，AltaCVD适合逻辑电路及存储器制造中的等离子体增强MOCVD和ALD技术，其中包括制作高k栅介质、金属电极、高k耦合介质、铁电材料等。

“Altatech产品定位于加速新一代半导体工艺材料的开发，该设备独特的设计和技术符合这一定位。”Altatech主管Herve Monchoix在一份声明中说道。

该设备已经出货，但Altatech未透露买家。

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