芯片的制作工艺级别一直都是大家非常关注的问题，从2004年的64纳米工艺一直升级到现在的5纳米工艺，足足用了16年时间之久，如今有消息传出荷兰的ASML公司已经完成1nm光刻机设计，说明1nm光刻机有突破了，并预计在2022年开始商用，这消息一出宛如一颗重磅震撼弹般撼动着整个世界。

根据日媒11月30日消息，IMEC公司在ITF Japan 2020大会上公布了3nm、2nm、1.5nm以及1nm以下的逻辑器件小型化路线图。根据IMEC公司首席执行官兼总裁Luc Van den hove的透露，IMEC公司与ASML公司紧密合作，将推进下一代高分辨率EUV光刻技术。并且目前ASML公司已经完成了作为NXE:5000系列的高NA EUV曝光系统的基本设计，将应用于1nm光刻机，预计2022年即可商用。

在半导体领域有一个经典理论，即“大约每两年，晶体管密度就会增加1倍”，业内人通常把这个定律称之为摩尔定律。1纳米工艺，曾是想都不敢想的，如今已有计划实现，这怎能不引起全球的广泛关注。

荷兰ASML公司突破1nm光刻机固然是令人振奋的，不过这也让大家关心国内的光刻机技术了，现在已经商用的5纳米的光刻机，而国内目前只能达到14纳米工艺，5纳米工艺预计我们国内预计还需要四、五年才能实现，也就是说，现今国产光刻机的工艺和世界先进水平的有两代差距。

如今，荷兰ASML公司1nm光刻机已经完成1nm光刻机设计，留给国产光刻机的时间真的不多了，希望国内的科学家再加把劲，来个弯道超车，让全世界都刮目相看。