据日经BP社报道，日本电子上市了电子显微镜（SEM）新产品——复合光束加工观测装置“JIB-4500”，该产品具备获取并分析表面和内部三维图像的能力，除了聚焦离子束（FIB）加工和SEM观测功能外，还可利用能量分散型X射线分析装置（EDS）和电子背散射衍射（EBSD）系统进行分析。该产品售价为7000万日元。

可以一边进行FIB加工，一边通过SEM图像观测加工状况。可用于观察内部构造，或者制作薄膜试验材料。除了可以自动制作截面试验材料外，还可以安装多个旨在制作试验材料保护膜的气体注入系统。针对电荷积累剧烈，至今难以观测的非导电性试验材料等方面，配备了低真空SEM模式。

FIB的加速电压为1k～30kV，倍率为100～30万倍。作为离子源，使用了液体金属镓。加速电压为30kV时解析图像的分辨率小于5nm，采用了30nA的大电流模式。

另一方面，SEM的加速电压为0.3k～30kV，倍率为5～30万倍。电子枪的阴极使用了6硼发射尖锥（LaB6）。这样当加速电压为30kV时，解析图像的分辨率为2.5nm。加速电压为30kV时最大发射电流为1μA。配备用X、Y、Z轴分别为76mm、76mm、5～48mm的试验材料台。